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真空镀膜设备

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真空电镀是一种物理沉积现象


发表时间:2024/5/26 21:32:02     阅读次数: 6    


  真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气,氩气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。为了满足更安全、更节能、降低噪声、减少污染物排放的要求,在表面处理工艺上,真空电镀已经成为环保新趋势。与一般的电镀不同,真空电镀更加环保,同时,真空电镀可以生产出普通电镀无法达到的光泽度很好的黑色效果。真空电镀使用特点主要有哪些?

真空电镀

    1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格复制出啤件表面的形。

    2、工作电压不是很高(200V),操作方便,但设备较昂贵。

    3、蒸镀锅瓶容积小,电镀件出数少,生产效率较低。

    4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝、银、铜、金等)镀饰。

    5、对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。

    6、真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMA等。




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